Как зависит проводимость полупроводников от температуры. Полупроводниковые материалы - электроматериаловедение

1.

С/р. 5. Эквивалентная схема p-n перехода. Температурные и частотные свойства p-n перехода. Виды и способы создания p-n перехода.

Норма времени – 2 часа, самостоятельное изучение – 2 часа.

1. Физические свойства полупроводников. Зависимость проводимости полупроводников от температуры и других факторов.

Атом любого вещества состоит из положительно заряженного атомного ядра и вращающихся вокруг него электронов - носителей отрицательного заряда. Основная масса атома сосредоточена в ядре. Положительно заряженные ядра различных элементов отличаются друг от друга как массой, так и величиной своего заряда, электроны же их имеют одинаковый заряд и массу. Общий отрицательный заряд электронов в атоме равен положительному заряду ядра, поэтому число электронов в атоме того или иного элемента различно и соответствует порядковому номеру элемента в таблице Д. И. Менделеева.

Большинство полуметаллов имеют как металлические, так и неметаллические модификации. Полуметаллы также занимают центральное положение в периодической системе элементов. Есть дополнительные статьи об отдельных элементах. Бор Существует четыре различных модификации боронного металла. Бор не образует типичную металлическую решетку со свободно движущимися электронами, но между атомами бора образуются гораздо более сильные ковалентные связи, что объясняет как определенную твердость, так и высокие температуры плавления.

При комнатной температуре электрическая проводимость очень низкая, но очень быстро возрастает при нагревании. Он используется в полупроводниковой технологии, в электротехнической промышленности и для производства особо твердых материалов. Кремний Одним из наиболее важных материалов в электронике является полуметаллический кремний. Ультрачистый кремний используется в микроэлектронике и в фотогальванике, где он специально легирован мышьяком, сурьмой или алюминием. В чистом кремнии каждый атом тетраэдрически окружен четырьмя другими атомами кремния.

Орбиты вращающихся электронов находятся на разных расстояниях от ядра, причем на каждой орбите находится вполне определенное число электронов. На самой первой, наиболее близкой к ядру орбите может находиться не более двух электронов, на второй - 8, на третьей - 18, на четвертой - 32. Орбиты различно расположены в пространстве и образуют вокруг ядра электронные слои. Электроны одного и того же слоя характеризуются почти одинаковым запасом энергии, т. е. находятся на одинаковом Энергетическом уровне . Электроны, вращающиеся на последней, внешней орбите, называются Валентными электронами . Валентные электроны наиболее слабо связаны с ядром, взаимодействие их обеспечивает соединение атомов в молекулы или в кристаллическую решетку.

При комнатной температуре все четыре внешних электрона связаны в атомных связях, что приводит к регулярной кристаллической решетке, подобной решетке алмаза. По мере роста температуры все больше электронов растворяется и становится свободно подвижным. Это увеличивает электрическую проводимость.

Для производства электронных компонентов на основе полупроводников, таких как кремний или германий, избыточные электроны или электронные дырки избирательно вводятся в валентную зону путем легирования элементами основной группы, чтобы установить определенную проводимость. Однако возрастающая внутренняя проводимость материала при более высокой температуре затем препятствует желаемой функции компонента и, следовательно, определяет его верхние пределы применения температуры. Зазор между валентной зоной и зоной проводимости составляет около 1, 1 эВ больше для кремния, чем около 0, 7 эВ для германия.

В твердых телах тепловое движение молекул и атомов проявляется в виде колебаний вокруг некоторых средних положений. При этом наблюдаются многочисленные столкновения частиц между собой. В момент сильного удара из атома может быть выбит один или несколько электронов. Атом становится ионом, а освободившийся электрон начинает свободно блуждать по всему объему твердого тела. Он может примкнуть либо к положительному иону, либо даже к нейтральному атому, образуя при этом отрицательно заряженный ион.

Мышьяк. Полуметальный мышьяк образует несколько модификаций. Наиболее стабильной модификацией при комнатной температуре является металлический серый мышьяк. Это стальная серая, металлическая, глянцевая, непрозрачная, хрупкая, кристаллическая масса. Метастабильной модификацией является желтый мышьяк. Например, путем тушения пар аргона жидким воздухом. Это неметаллическая фаза, состоящая из 4 молекул с тетраэдрической структурой. Он превращается в серый металлический мышьяк даже при низком потреблении энергии.

Он также используется в полупроводниковой технологии и для производства специальных сплавов с медью и свинцом. Термодинамически наиболее стабильной модификацией является серо-серый селен. Примечательным для металлического селена является особый внутренний фотоэффект, час что электропроводность сильно возрастает во время воздействия. Также значителен термоэлектрический эффект, свойственный полупроводникам. Все модификации при нагревании преобразуются в стабильную металлическую модификацию.

Электрон, входящий в состав атома, обладает строго определенной энергией. Все электроны каждого конкретного атома распределены по строго определенным энергетическим уровням. При соответствующих условиях электрон можно перевести с одного энергетического уровня на другой, при этом будет либо выделяться, либо затрачиваться энергия. Так как электроны в атоме, как уже сказано, занимают лишь вполне определенные энергетические уровни и не могут находиться в промежуточных состояниях, то потеря энергии электроном или ее приобретение происходит не постепенно, а скачками. При переходе электрона с более высокого энергетического уровня на более низкий Излучается один квант света. И наоборот, переход электронов с более низких на более высокие уровни Сопровождается поглощен нем световых квантов.

Селен используется в электрофотографии в фотокопирах, фотоэлементах и ​​экспонометрах, а также в металлургической промышленности в качестве легирующей добавки. Сурьма Существует также несколько различных модификаций сурьмы, причем металлический характер более выражен, чем более легкий гомологический мышьяк. Самая стабильная модификация - серая, металлическая, твердая, хрупкая и устойчивая к воздействию воздуха. Проводимость низкая. Соединения сурьмы, а. для производства полупроводников.

Неметаллическая коричневато-черная аморфная форма медленно проходит от расплава до металлической кристаллической модификации при комнатной температуре. Это серебристо-белый и очень хрупкий. Измерение электрического давления на пьезорезистивной основе.

Границы между проводниками, полупроводниками и изоляторами условны. Проводники обладают высокой электропроводностью. В наружной электронной оболочке атома металла имеется хотя бы один электрон, который, будучи слабо связанным с ядром, покидает пределы атома и свободно блуждает по всей массе металла. Появление Свободных электронов в металле не связано с какими-либо внешними воздействиями на него. В металле происходит непрерывный процесс воссоединения электронов с ионами, вследствие чего образуются нейтральные атомы и новые свободные электроны. Число свободных электронов в единице объема проводника вполне определенно и равно произведению числа атомов в единице объема на валентность металла. Концентрация свободных электронов в единице объема не зависит ни от температуры, ни от влажности и давления окружающей среды.

Требования к технологическому процессу, автоматизации и компьютерным технологиям требуют измерительных приборов с электрическими выходными сигналами. На первом этапе использовалось оборудование обычных манометров с электрическим дополнением, которое делало деформацию пружинного элемента электрическим сигналом. Например, в емкостном, индуктивном или резистивном режиме, путем переноса деформации на конденсатор с переменным расстоянием между пластинами, на намоточной системе с перемещаемым сердечником или на потенциометре или резисторе, зависящем от деформации.

Таким образом, любой проводник состоит из ионов, каждый из которых расположен в узлах кристаллической решетки и совершает некоторые колебания вокруг положения равновесия, и из равномерно распределенных свободных электронов - Электронов проводимости . Если к проводнику приложить внешнее электрическое поле, то электроны проводимости приобретают дополнительную скорость, направленную против действия этого поля; движению электронов будут препятствовать только колеблющиеся ионы. В металле появится ток. С повышением температуры увеличивается амплитуда тепловых колебаний ионов, а значит возрастет их сопротивление движущимся электронам и ток уменьшится. С понижением температуры, наоборот, тепловые колебания ионов ослабевают, сопротивление движению электронов падает и ток возрастает. Этим и объясняется Явление сверхпроводимости проводников при понижении температуры (удельное сопротивление уменьшается, стремясь к нулю).

Второй этап - разработка встроенных датчиков, которые представляют собой комбинацию датчиков давления и преобразователей давления. К ним относятся пьезорезистивные методы измерения. Датчик давления на резистивной основе. В случае резистивных преобразователей давления резистор или несколько резисторов изменяются давлением. Такие преобразователи давления подходят как для статических, так и для динамических применений. Они пассивные, поэтому им нужен запас.

В зависимости от того, какие резисторы используются и в соответствии с которым производственный принцип изготовлен преобразователь давления, он обозначается по-разному. Металлические тензодатчики. Изменение сопротивления обусловлено двумя наложенными эффектами. С одной стороны, расширение измерительного тела вызывает уменьшение поперечного сечения и, следовательно, увеличение сопротивления. С другой стороны, удельное сопротивление также зависит от напряжения. Этот второй эффект называется пьезорезистивным эффектом.

Атом полупроводника тоже состоит из положительно заряженного ядра и окружающих его электронов, но все они очень прочно связаны с ядром. Поэтому при достаточно низких температурах в полупроводнике вообще отсутствуют свободные электроны, а следовательно, и электропроводность. Однако если учесть тепловое движение атомов и молекул, то в момент их столкновения з полупроводнике и даже в изоляторе могут появиться свободные электроны. Этим объясняется частичная электропроводность полупроводников и изоляторов. С повышением
температуры в них возрастает концентрация электронов проводимости и поэтому сопротивление уменьшается. Для увеличения, электропроводности полупроводника следует сообщить электронам энергию, необходимую для отрыва их от атома или молекул.

В случае полупроводниковых материалов пьезорезистивный эффект гораздо более выражен, чем в случае металлов. Это зависит от ориентации полупроводникового монокристалла и от легирования. Хотя пьезорезистивный эффект специально не зарезервирован для этой группы, термин пьезорезистивный преобразователь давления используется для тех, в которых эластичная, деформирующая давление структура и резисторы встроены в чип.

Миниатюризация. Резистивные датчики давления могут быть построены небольшими и, кроме диафрагмы, без движущихся частей. В результате они в значительной степени не зависят от положения, вибраций и ускорений. Их производство основано на обычных методах изготовления полупроводников. В то же время существует возможность интеграции резисторов и упругой деформационно-деформирующей структуры в чипе, в результате чего создается ячейка измерения давления в размере микросхемы. Размеры преобразователя давления в значительной степени определяются тем, что измерительная ячейка защищена от среды, подлежащей измерению для многих применений, час должен быть установлен в корпусе.

Помимо теплового движения в результате нагрева источником этой энергии могут быть электромагнитные волны, летящие элементарные частицы (электроны, протоны, нейтроны и др.), электрическое поле и свет.

При образовании кристалла из большого количества связанных атомов энергетические уровни отдельных атомов сдвигаются. Поэтому в кристалле энергетический уровень каждого электрона не совпадает с тем уровнем энергии, который аналогичный электрон занимает в свободном атоме. Так как количество уровней энергии в кристалле велико, а различие между ними мало, то эти уровни образуют так называемые Разрешенные зоны, А между ними располагаются Запрещенные зоны, На которых атомы данного элемента находиться не могут. Энергетические уровни валентных электронов образуют Валентную зону. Следующей, более высокой зоной в энергетическом отношении является свободная зона или Зона проводимости. На рис. 68 представлены три возможных случая расположения энергетических зон валентных электронов. В проводнике (рис. 1, А) Зона проводимости примыкает непосредственно к валентной зоне. Если к проводнику приложить внешнее электрическое поле, то под его влиянием электроны начнут двигаться направленно, меняя при

Эти пьезорезистивные датчики давления, которые полностью инкапсулированы из нержавеющей стали, были разработаны в течение десятилетия и в настоящее время практически не меняются во многих тысячах единиц в месяц промышленными пользователями. Дальнейшее развитие в области пьезорезистивных преобразователей давления не окажет большого влияния на дальнейшее снижение. Скорее всего, производство, в частности инкапсуляция в жилье, а также оценка и компенсация современных, полностью автоматизированных процессов, принесут пользу, в результате чего издержки производства также могут быть значительно уменьшены с этой стороны.

Рис. 1. Энергетические зоны валентных электронов:
А - в металле; Б - в полупроводнике; В - в изоляторе.

Этом свою энергию и переходя на более высокие уровни. В полупроводнике (рис. 1, Б) Между валентной зоной и зоной проводимости находится запрещенная зона. Для появления электропроводности необходимо, чтобы некоторое число электронов перешло из валентной зоны в зону проводимости, для чего электронам валентной зоны надо сообщить энергию Е От десятых долей до полутора электронвольт (один электронвольт, Эв, Соответствует энергии, необходимой для преодоления одним электроном разности потенциалов в один вольт). В диэлектриках (рис. 1,В) Величина АЕ Достигает нескольких электронвольт.

Измерение основного пьезорезистивного давления. Полупроводниковая технология. Проводимость полупроводников. Полупроводники представляют собой элементы со специальными электрическими свойствами, которые не обладают ни хорошей проводимостью проводников, ни исключительной изоляцией изоляторов. Чистые полупроводники очень хорошо изолируются при комнатной температуре, но электропроводность также возрастает с увеличением температуры, так что в отличие от изоляторов они становятся проводящими в твердом состоянии.

Это связано с тем, что электроны менее сильно связаны с атомным ядром, или, другими словами, требуется меньше энергии для разрушения электрона, чем в изоляторах. Однако более важным является следующий аспект: на проводимость также может влиять контролируемое добавление других элементов. Допированные полупроводники, полученные при получении контролируемых количеств легирования, или эти элементы имеют либо один электрон больше, либо один электрон меньше полупроводникового элемента. Если они вставляются в кристаллическую структуру монокристалла кремния, избыточный электрон для связей остается неиспользуемым или отсутствующий электрон заставляет так называемую дыру оставаться в кристаллической структуре.

2. Собственная проводимость полупроводников. Примесная проводимость полупроводников.

В современной электронике практическое применение Их имеют следующие полупроводники: германий, кремний, селен, окись меди и др. Вокруг ядра атома германия, содержащего 32 протона, на четырех оболочках находятся 32 электрона; расположенные на наружной оболочке 4 валентных электрона и определяют электропроводность германия. Схематически кристаллическая решетка

Избыточный электрон является относительно свободным отрицательным носителем заряда, который может мигрировать в кристалле, когда имеется соответствующая разность потенциалов, час накладывается напряжение. Чем больше таких свободных носителей заряда присутствует в кристалле, час чем выше плотность легирования, тем выше проводимость полупроводника. Как сказано, также возможно использовать отсутствующие электроны, так называемые дырки, в качестве носителей заряда. В то время как электрон имеет заряд -1, т.е. отрицательный заряд, один заряд соответствует заряду 1, т.е. положительному заряду.

Рис.2 Кристаллическая решетка
чистого германия.

Чистого германия представлена на рис. 2. Объединение атомов германия в кристаллическую решетку осуществляется при помощи ковалентных, или атомных, связей.

Вследствие теплового возбуждения происходит ионизация отдельных атомов кристаллической решетки, т. е. некоторые из валентных электронов становятся свободными, обусловливая Электронную проводимость Германия. В результате столкновений с ионами и атомами часть свободных электронов теряет энергию. Они возвращаются в валентную зону и занимают свое место в парноэлектронных связях. Одновременно с этим появляются новые свободные электроны. Наконец, устанавливается динамичекое равновесие между освобождающимися электронами и возвращающимися в валентную зону.

Монокристалл кремния выращивается в качестве основного материала, для которого доступны различные процессы. Производство полностью чистых монокристаллов кремния практически невозможно. Монокристалл разрезают на кусочки, так называемые вафли или вафли. Ориентация кристаллической структуры и пересекающихся плоскостей существенно, так как монокристаллы ведут себя анизотропно, час имеют разные свойства в разных направлениях. На полированной поверхности пластин локализованные посторонние атомы могут быть включены в нужное место.

С этой целью слой оксида сначала должен быть удален с поверхности пластины в точке, подлежащей легированию. С помощью фотохимических процессов наносится светочувствительный слой, требуемую маску воздействию на растворили прочь не подвергавшихся воздействию сайт, и этот слой вытравливают, лежащие в основе точек оксидного слоя. Отложение посторонних атомов происходит путем диффузии в газовой атмосфере при высоких температурах или путем ионной имплантации. Во время диффузии на поверхности получается самая высокая концентрация легирующих атомов.

В полупроводнике наряду с электронов имеет место так называемая Дырочная проводимость. После отрыва электрона от атома остается свободное место, которое называют Дыркой. Валентный электрон соседнего нейтрального атома может перейти на притягивающий его атом с дыркой и заполнить освободившуюся связь. При этом дырка как бы «переходит» к соседнему атому. Если к полупроводнику не приложено внешнее электрическое поле, то дырки, так же как и свободные электроны зоны проводимости, перемещаются беспорядочно. Если полупроводник поместить в электрическое поле, то движение дырок становится направленным. Это направленное движение
дырок от одного атома к другому соответствует движению положительных зарядов через полупроводник, а следовательно, и протеканию через полупроводник тока в направлении движения дырок. Проводимость полупроводника, вызванная движением дырок, называется дырочной или проводимостью типа Р (от латинского слова positive - положительный), в отличие от проводимости типа П (от латинского слова negative - отрицательный), обусловленной движением электронов.

Токи, вызванные электронной и дырочной проводимостями, совпадают по направлению и поэтому (1)

Где I П - электронный ток; - дырочный ток.

Проводимость, возникающая в полупроводнике вследствие нарушения валентных связей, называется Собственной проводимостью .

Таким образом, проводимость полупроводника определяется как движением электронов в зоне проводимости, так и движением электронов в валентной зоне, однако принято считать, что в валентной зоне перемещаются не электроны, а дырки.

Влияние Примесей На Проводимость полупроводника

Чистые полупроводники редко применяются в полупроводниковой технике. Обычно используются примесные полупроводники. Введение в полупроводник атомов соответствующей примеси способствует образованию дополнительных носителей тока, что приводит К Повышению электропроводности иногда в десятки миллионов раз. В чистом полупроводнике «поставщиком» электронов в зону проводимости может быть валентная зона. Введение примесей в полупроводник должно способствовать переходу электронов в зону проводимости. Существуют два вида примесей.

В примесях первого вида энергетические уровни электронов примеси располагаются в запрещенной зоне полупроводника вблизи зоны проводимости. Поэтому атомы примеси, являясь поставщиками электронов в зону проводимости, легко отдают в нее электроны, поскольку электронам при этом следует сообщить меньшую энергию

Рис. 3. Виды примесей в полупровод-
нике: А -- расположение донорных
уровней; Б - расположение акцептор-
ных уровней.

Е1, А не Е, как в полупроводнике без примеси (рис. 3, А). Примесные уровни при температуре выше абсолютного нуля отдают свои электроны в зону проводимости тем интенсивнее, чем выше температура полупроводника. Примесные уровни такого вида называются Донорными уровнями, А сами примеси - Донорами (donаге - дарить, лат.).

Примесные уровни второго вида называются Акцепторными, А сами примеси - Акцепторами. Акцепторные уровни располагаются около валентной зоны. При абсолютном нуле температуры акцепторные уровни свободны, т. е. не заполнены. Поэтому при температуре, отличной от абсолютного нуля, на такие уровни могут перейти электроны из валентной зоны, и так как 2 < Е, То число этих электронов будет больше, чем количество электронов, переходящих в зону проводимости (рис. 3, б). Уход электронов из валентной зоны дает возможность оставшимся здесь электронам, при наличии постороннего электрического поля, принять участие в проводимости в пределах этой зоны. При этом, как указывалось выше, дырки будут двигаться в направлении действия электрического поля.

Таким образом, электропроводность полупроводника можно увеличить путем введения донорной примеси (за счет возрастания электронов в зоне проводимости) либо путем введения акцепторной примеси (за счет возрастания числа дырок в валентной зоне).

Свойства Германия С Примесями

В настоящее время из полупроводниковых элементов наибольшее применение нашли германий и кремний. Германий является очень редким элементом: содержание его в земной коре составляет менее . Исходным продуктом для получения чистого германия является двуокись германия (Ое02), восстанавливаемая в водороде.

Кремний, наоборот, - один из самых распространенных элементов в природе и запасы его неисчерпаемы. Однако получение чистого кремния затруднено из-за высокой температуры плавления (более 1400° С) и большой химической активности в жидком состоянии.

Если в четырехвалентный германий добавить пятивалентный мышьяк или фосфор (донорную примесь), то примесный атомы займут в кристаллической решетке места отдельных атомов германия. При этом около каждого атома примеси останется один валентный электрон, не связанный с окружающими атомами германия (рис. 4).

При температуре, отличающейся от абсолютного нуля, этот электрон может покинуть атом примеси и стать свободным, причем возникновение свободных электронов не

Рис. 4. Кристаллическая решет - Рис. 5. Кристаллическая решет-

Ка германия с примесью фос - ка четырехвалентного германия

Фора. с примесью трехвалентного индия.

Связано с появлением дырки. Для ионизации атома чистого германия необходима энергия 0,72 Эв, Тогда как для ионизации примесного атома требуется энергия 0,015 зв. Поэтому уже при комнатной температуре все свободные электроны донорной примеси находятся в зоне проводимости. Германий с донорной примесью называется германием n-типа. Если к нему приложить электрическое поле, то в полупроводнике появится ток.

При добавлении в четырехвалентный германий трехвалентного индия или галлия атом примеси, заняв место атома германия в кристаллической решетке, не будет иметь достаточного числа электронов для образования ковалентной связи (рис. 5). При температуре выше абсолютного нуля один из валентных электронов соседних атомов, получив достаточную энергию, заполнит недостающую связь. Примесный атом становится отрицательным ионом, а в том месте, откуда ушел электрон, образуется дырка. При этом свободный электрон не появляется, количество свободных электронов в зоне проводимости остается прежним. Для того чтобы электрон от атома германия перешел к атому примеси, ему надо сообщить энергию порядка 0,1 Эв, В то время как для того, чтобы электрону от примесного атома перейти в зону проводимости, надо затратить энергию в 0,72 Эв. При обычной комнатной температуре большинство электронов германия переходит к примесным атомам. Германий с акцепторной примесью называется германием р-типа.

В германии n-типа много свободных электронов, они рекомбинируют с дырками и уменьшают их количество; аналогично в германии р-типа много дырок, они рекомбинируют с электронами и уменьшают их количество.

При значительной концентрации примеси проводимость полупроводника определяется основными примесными носителями. Так, в германии n-типа основными носителями являются электроны, неосновными - дырки, а в германии р-типа основными носителями являются дырки, а неосновными - электроны.

Примесные полупроводники электрически нейтральны и обладают проводимостью, определяемой видом примеси.

3. Электронно-дырочный переход. Свойства p-n перехода при отсутствии и наличии внешнего напряжения.

Односторонняя Проводимость электронно - Дырочного Перехода

Каждый, отдельно взятый полупроводник П - Или р-типа обладает двусторонней проводимостью: если изменить направление электрического поля, приложенного к полупроводнику, то в нем изменится лишь направление а не величина тока. .

Рассмотрим контакт двух полупроводников - одного с электронной и второго с дырочной проводимостью. При этом следует помнить, что в каждом полупроводнике имеются основные и неосновные носители тока. Распределение их в электронно-дырочном переходе показано на рис. 73. По оси ординат, в некотором масштабе, отложена концентрация N Электронов и дырок на единицу объема в полупроводниках типа П И р; Х - расстояние от границы перехода (рис. 6, А).

Пока электроны и дырки находились в соответствующих областях полупроводников, эти области были электрически нейтральны. При наличии контакта между полупроводниками с разными типами проводимости происходит диффузионное перемещение электронов из полупроводника типа П В полупроводник типа Р И дырок из полупроводника типа Р В полупроводник типа я. В приконтактном слое полупроводника типа П Образуется избыточный положительный заряд, а в приконтактном слое полупроводника типа Р - избыточный отрицательный заряд.

На рис. 6, Б Представлено изменение плотности зарядов Qt появившихся вследствие диффузии основных носителей, с расстоянием от границы перехода Х. Положительный заряд в приконтактном слое /i-области возникает за счет избытка здесь положительных зарядов, которые являются неподвижными ионами - акцепторами. Он не уравновешивает зарядов подвижных электронов, так как часть электронов перешла в р-область, а часть рекомбинировала с дырками, поступившими из этой области.

Аналогичные явления происходят и в приконтактном слое р-области, но с зарядами противоположных знаков. В пограничной зоне образуется электрическое поле контактной разности потенциалов Eк, препятствующее дальнейшей диффузии, т. е. перемещению основных носителей (рис. 6, В). Между полупроводниками появляется контактная разность потенциалов (потенциальный барьер), и диффузия прекращается.

Потенциальный барьер р -n Переходов образованных в германии принимает значение от 0.3 В до 0.4 В , В кремнии От 0.7 В до 0.8 В .

Если к П- Р-переходу приложить внешнее электрическое поле E, направление которого совпадает с направлением электрического поля контакта Ек, То суммарное электрическое поле Ez будет равно
EZ = E + Ек.

При этом положительный полюс внешней батареи должен быть присоединен к n-области, а отрицательный - к р-области (рис. 7, А). Переключатель П должен находится в положении 1. Внешнее электрическое поле вызовет перемещение дырок к отрицательному полюсу батареи, а электронов - к положительному, т. е. движение дырок и электронов будет происходить от границы П- Р-перехода. По цепи пройдет кратковременный ток. Контактная разность потенциалов ф станет выше (рис. 7, Б). Следует иметь в виду, что в цепи будет иметь место и некоторый ток, определяемый также неосновными носителями.

Если переключатель П Поставить в положение 2 (рис. 7, а), то основные носители под действием внешнего поля переместятся к границе перехода и соответственно EZ = E - Ек

Потенциальный барьер при этом станет меньше, и в цепи установится ток. Если величина внешнего электрического поля Е Окажется больше электрического поля в пограничной зоне ЕК, То потенциального барьера не станет. Через полупроводник пойдет ток, величина которого будет определяться величиной приложенного напряжения (рис. 7, В).

Если напряжение от внешнего источника приложить в направлении проводимости электронно-дырочного перехода, то в цепи устанавливается ток, более чем в десятки и сотни тысяч раз превышающий обратный ток. Обратный ток не зависит от приложенного напряжения, а определяется только концентрацией неосновных носителей. Он имеет постоянный для данного полупроводника предел, и поэтому называется током насыщения.

Таким образом, электронно-дырочный переход обладает односторонней (униполярной) проводимостью.

4. Вольт-амперная характеристика p-n перехода.

Также см. c.291-293 Гаврилюк

Зависимость тока через р-n-переход от приложенного к нему напряжения I=f(U) называют вольт-амперной характеристикой р-n-перехода. Она описывается уравнением:

I= I0(e±qU /(kT) −1) (2.11)

Если р-n-переход включен в прямом направлении, напряжение U берут со знаком плюс, а если в обратном – со знаком минус. При комнатной температуре тепловой потенциал равен 0,025 ЭВ (ϕт= K⋅Т/q). Cогласно уравнению (2.11), при прямом напряжении прямой ток растет с повышением напряжения экспоненциально. При обратном напряжении обратный ток равен тепловому току, который от напряжения не зависит, поэтому рост тока при значительном повышении напряжения (до определенного предела) почти прекращается, наступает как бы его насыщение. Отсюда тепловой ток I0 называют также током насыщения.

Вольт-амперная характеристика р-n-перехода показана на рисунке 2.4. Обратный ток, обычно, на несколько порядков меньше прямого. Поэтому р-n-переход обладает вентильным свойством, т. е. односторонней проводимостью. При повышении температуры прямой ток через р-n-переход увеличивается.

Рисунок 2.4

Дадим определение некоторым понятиям, используемым при описании полупроводниковых приборов. При прямом смещении потенциальный барьер понижается и через него перемещаются основные носители заряда в смежную область, где они являются неосновными. Это явление называется инжекцией (впрыскивание). Область, из которой инжектируются носители заряда, называется эмиттером, а область, в которую они инжектируются и где они являются неосновными – базой.

Под действием поля р-n-перехода неосновные для данной области носители заряда перемещаются через р-n-переход в соседнюю область. Процесс выведения не основных носителей заряда через переход под воздействием поля этого перехода при подключении р-n-перехода к источнику внешнего напряжения называется экстракцией (извлечением).

Резкое возрастание обратного тока, наступающее при незначительном увеличении обратного напряжение сверх определенного значения, называют Пробоем перехода . Природа пробоя может быть различной: он может быть электрическим (участок АВ на рисунке 2.4), при котором р-n-переход не разрушается и сохраняет работоспособность, и тепловым (участок ВС на рисунке 2.4), при котором разрушается кристаллическая структура полупроводника. Тепловой пробой р-n-перехода -пробой р-n-перехода, сопровождаемый разрушением кристаллической структуры полупроводника, возникает, когда мощность, выделяемая в р-n-переходе при протекании через него обратного тока, превышает мощность, которую способен рассеять р-n­переход. Электрический пробой связан со значительным увеличением напряженности электрического поля в р-n-переходе (более 105 В/см). Наблюдаются два типа электрического пробоя. В полупроводниках с узким р-n­переходом (что обеспечивается высокой концентрацией примесей) возникает туннельный пробой, связанный с туннельным эффектом, когда под воздействием очень сильного поля носители заряда могут переходить из одной области в другую без затраты энергии («туннелировать» через р-n-переход). Туннельный пробои наблюдается при обратном напряжении порядка нескольких вольт (до 10 В).

В полупроводниках с широким р-n-переходом может произойти лавинный пробой. Его механизм состоит в том, что в сильном электрическом поле может возникнуть ударная ионизация атомов р-n-перехода носители заряда на длине свободного пробега приобретают кинетическую энергию, достаточную для того, чтобы при столкновении с атомом кристаллической решетки полупроводника выбить из ковалентных связей электроны. Образовавшаяся при этом пара свободных носителей заряда «электрон – дырка» тоже примет участие в ударной ионизации. Процесс нарастает лавинообразно и приводит к значительному возрастанию обратного тока. Пробивное напряжение лавинного пробоя составляет десятки и сотни вольт.

Тепловой пробой возникает тогда, когда мощность, выделяемая в р-n­переходе при прохождении через него обратного тока, превышает мощность, которую способен рассеять р-n-переход. Происходит значительный перегрев перехода, и обратный ток, который является тепловым, резко возрастает, а перегрев увеличивается. Это приводит к лавинообразному увеличению тока, в результате чего и возникает тепловой пробой р-n-перехода.

2.4 Емкости р-n-перехода

По обе стороны от границы р-n-перехода находятся ионизированные атомы донорной и акцепторной примесей, образующие отрицательные и положительные пространственные заряды. При изменении напряжения, приложенного к переходу, изменяется его ширина, а следовательно, и пространственный заряд. Поэтому плоскостной р-n-переход можно рассматривать как две пластины конденсатора с равными по значению, но противоположными по знаку зарядами(Qp =−Qn), т. е. р-n-переход обладает емкостью. Емкость, обусловленная перераспределением зарядов в переходе, называется барьерной. Заряд Q зависит от напряжения, но не пропорционален ему, и емкость определяется как отношение приращения пространственных зарядов в р-n-переходе к вызвавшему это приращение изменению напряжения:

Сб =dQ / dU. (2.12)

Заряд (положительный или отрицательный) можно найти из выражения:

Где N – концентрация донорной или акцепторной примеси;

S – площадь р-n-перехода;

L – ширина p-n-перехода, причем для несимметричного р-n-перехода при его прямом и обратном включении:

L = 2εε0(∆ϕk −U)/(qN) =l0 (∆ϕk −U)/ ∆ϕk. (2.14)

Гдеε - относительная диэлектрическая проницаемость среды; ε0 –электрическая постоянная; N =Nd, если Nd >> Na и N = Na, если Na >> Nd ; U-напряжение, приложенное к переходу (при прямом включении U> 0, при обратном –U<0);

∆ϕ-ширина p-n-перехода в равновесном состоянии.

Подставив в модель (2.13) соотношение (2.14) и продифференцировав полученное выражение по напряжению, получим:

Cб = εε0S ∆ϕK. (2.15)

Первый сомножитель в модели (2.15) определяет емкость обычного плоского конденсатора, второй – характеризует зависимость барьерной емкости от приложенного напряжения.

При подключении к р-n-переходу прямого напряжения из каждой области полупроводника в смежную инжектируются неосновные для нее носители заряда (вследствие диффузии при понизившемся потенциальном барьере). В тонких слоях около границы р-n-перехода возникает избыточная концентрация неосновных носителей. Для нейтрализации этого избыточного заряда из прилегающих слоев отсасываются основные носители, число которых пополняется за счет источника. Таким образом, в каждой области у границы р-n-перехода возникают равные по значению, но противоположные по знаку заряды QДИФ. При изменении напряжения изменяется число инжектированных носителей, а следовательно, и заряд. Изменение заряда на границе перехода подобно изменению зарядов на обкладках конденсатора при изменении приложенного к нему напряжения. Емкость, связанную с изменением инжектированных носителей при изменении напряжения, называют диффузионной и определяют как отношение приращения инжектированного заряда в базе к вызвавшему его приращению напряжения:

C ДИФ =dQИНЖ / dU. (2.16)

Диффузионная емкость увеличивается с увеличением прямого тока. Кроме того, она тем больше, чем больше время жизни неосновных инжектированных носителей заряда, так как при этом меньше рекомбинация и больше носителей накапливается у границы р-n-перехода.

При подключении к р-n-переходу обратного напряжения перераспределение зарядов вследствие экстракции незначительно, поэтому диффузионная емкость мала. При прямом напряжении диффузионная емкость значительно больше барьерной, а при обратном напряжении наоборот. Поэтому при прямом напряжении учитывают C ДИФ, а при обратном −Cб.

Принцип действия и устройство полупроводниковых диодов

Полупроводниковый диод представляет собой прибор с одним электронно-дырочным переходом. Различают два типа полупроводниковых диодов: точечные и плоскостные.

В точечных диодах электронно-дырочный переход создается в месте контакта пластинки германия или кремния с заостренной металлической проволочкой (рис. 8, А). Для этой цели германиевый кристалл с электронной проводимостью, размером примерно 1,5x1,5х 0,5 Мм, Припаивают к одной из ножек прибора. Наружную поверхность кристалла тщательно полируют и формуют. Процесс формовки заключается в пропускании через такой собранный точечный диод сравнительно мощных, но коротких импульсов тока. При этом происходит сплавление кончика бериллиевой или вольфрамовой пружинки с полупроводником, меняется тип проводимости в слое полупроводника, прилегающем к пружине, и создается механическая прочность контакта.

В плоскостных диодах (рис. 8, Б) Электронно-дырочный переход образуется в месте контакта

Рис. 8. Конструкции диодов: А - точечных; Б - плоскостных.
1 - вольфрамовая пружинка; 2 - германиевый кристалл; 3 - первый элек-
трод (кристаллодержатель); 4 - второй электрод; 5 - керамическая втулка.

Пластинки германия (обычно с примесью сурьмы) с П- Проводимостью и вплавленного в него кусочка индия. Атомы индия при температуре около 500°С, диффундируя в n-германий, создают в прилегающей небольшой области акцепторную примесь с р-проводимостью.

К кристаллу германия, в котором создан Р -n-переход, припаивают токопроводящие провода. Всю конструкцию помещают в стеклянный или металлический корпус В плоскостном кремниевом диоде Р -n-переход получается вплавлением алюминия в n-кремний.

СТАТИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И ПАРАМЕТРЫ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ДИОДОВ

Вольт-амперная характеристика полупроводникового диода представлена на рис. 9. C увеличением напряжения в направлении проводимости диода (так называемое Прямое напряжение) Прямой ток через прибор резко увеличивается. При противоположной полярности приложенного напряжения (так называемое Обратное напряжение) Возникает ток насыщения /0 - обратный ток через П -р-переход, практически не зависящий от величины обратного напряжения.

Вольт-амперная характеристика полупроводникового диода аналитически выражается следующей формулой:

Где I -ток, протекающий через диод;
Q -заряд электрона;
К -постоянная Больцмана;
I 0 -ток насыщения (обратный ток);
Т
- абсолютная температура.
При комнатной температуре примерно равно 40 1/в, и формула (88) примет вид

1обр, мка

Рис. 76. Вольт-амперная характеристика полупроводникового диода.

Из формулы следует, что при положительном (прямом) напряжении, приложенном к П -р-переходу, начиная с напряжения порядка 0,04-0,05 в, экспоненциальный член Е40 U много больше единицы, и ток через П - р-переход с увеличением напряжения резко возрастет.

Наоборот, при отрицательных (обратных) напряжениях, экспоненциальный член будет много меньше единицы, им можно пренебречь и считать, что ток, проходящий через полупроводниковый диод, т. е. обратный ток, равен току, проходящему через П - р-переход при отсутствии внешнего напряжения.

Если обратное напряжение превысит допустимое максимальное напряжение Uобр-макс то наступит перегрев и разрушение диода. Чем больше протяженность отрицательной ветви вольт-амперной характеристики, тем большей способностью выдерживать без пробоя обратное напряжение, обладает диод.

Пробой наступает вследствие того, что под действием сильного электрического поля электроны освобождаются от ковалентных связей, увеличивают свою энергию и, двигаясь с повышенными скоростями внутри полупроводника, ионизируют его нейтральные атомы. Появляются новые свободные электроны и дырки, что приводит к лавинообразному увеличению обратного тока, а следовательно, и к перегреву П - Р -перехода.

Сопротивление П - Р -перехода переменному току в данной точке вольт-амперной характеристики определяется ее наклоном и может быть определено дифференцированием выражения (88):

(90)

Где I и I 0 - в миллиамперах, R - сопротивление полупроводникового диода-в омах.

Формула (90) и характеристика сопротивления R , Представленная пунктиром на рис. 76, показывают, что с увеличением тока сопротивление перехода падает и составляет величину порядка единиц или даже десятых долей ома. При обратном напряжении, когда I I 0 , сопротивление П - р-перехода имеет величину порядка десятков и сотен тысяч ом.

Анализ вольт-амперной характеристики полупроводникового диода показывает, что он является нелинейным элементом, его сопротивление меняется в зависимости от величины и знака приложенного напряжения. Эти свойства полупроводникового диода позволяют его использовать для выпрямления переменного тока, преобразования частоты, ограничения амплитуд и т. д.

Для оценки электрических свойств полупроводниковых точечных диодов пользуются следующими параметрами:

1. Прямой ток - ток, протекающий через диод, когда к нему приложено постоянное прямое напряжение в один вольт.

2. Обратный ток - ток, протекающий через диод, когда к нему приложено наибольшее постоянное
допустимое обратное напряжение.

3. Обратное пробивное напряжение - напряжение, при котором диод выходит из строя.

4. Допустимая амплитуда обратного напряжения - наибольшая амплитуда обратного напряжения, которая может быть приложена к прибору в обратном направлении в течение продолжительного
времени, не вызывая пробоя.

5. Среднее значение выпрямленного тока - постоянная составляющая выпрямленного тока диода, которая может протекать через диод долгое время, не вызывая его перегрева.

Для оценки электрических свойств полупроводниковых плоскостных диодов пользуются следующими параметрами:

1. Подводимое переменное напряжение - максимальное действующее значение пере менного синусоидального напряжения в вольтах, которое можно подавать на вход диода в течение продолжительного времени без пробоя.

2. Прямое падение напряжения - среднее значение напряжения на диоде при максимально допустимом выпрямленном токе. Оно характеризует внутреннее сопротивление прибора при прохождении через него прямого тока и обычно составляет величину порядка десятых долей вольта.

3. Выпрямленный ток - постоянная составляющая тока диода, которая при длительном протекании через диод не вызывает его перегрева, измеряется в миллиамперах или в амперах.

4. Обратный ток - среднее значение обратного тока диода, когда к нему приложено допустимое обратное переменное напряжение. Он характеризует внутреннее сопротивление диода в обратном направлении.

Основные особенности вольт-амперной характеристики полупроводникового диода по сравнению с соответствующей характеристикой вакуумного диода заключается в следующем:

1. При изменении знака приложенного напряжения в полупроводниковом диоде меняется направление тока, протекающего через прибор, а в вакуумном диоде оно остается неизменным.

2. При отсутствии внешнего приложенного напряжения в полупроводниковом диоде отсутствует ток, а через вакуумный диод протекает небольшой начальный ток.

3. При отрицательных (обратных) напряжениях через полупроводниковый диод протекает обратный ток порядка единиц и десятков микроампер, а в вакуумном диоде ток практически отсутствует.

В отличие от точечных полупроводниковых диодов, у которых большинство параметров измеряется на постоянном токе, все параметры плоскостных полупроводниковых диодов измеряют обычно на переменном токе с частотой 50 Гц.

§ 37. ЭКСПЛУАТАЦИОННЫЕ СВОЙСТВА
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ
ДИОДОВ

Работа полупроводникового диода зависит от условий окружающей среды. Так, электропроводность полупроводников получается достаточно высокой при температурах 50-60° С, так как с повышением температуры увеличиваются тепловые колебания, электронов основного полу-
проводника и примеси. Часть электронов приобретает
энергию, достаточную для преодоления связей с ядрами
атомов. Атомы примеси отдают все свои носители зарядов
быстрее и при меньшей температуре, чем атомы основного
полупроводника. Поэтому при высоких температурах
увеличение тока через П - р-переход определяется глав-
ным образом ростом электропроводимости основного полупроводника, а не примеси.

На рис. 76 штрих-пунктиром показана вольт-амперная
характеристика диода при более высокой температуре
окружающей среды. Из графика видно, что по мере повышения температуры увеличивается как прямой ток диода,
так и обратный, а напряжение ,"de":["0jX1DukXepg","0jX1DukXepg"]}